原子层沉积（ALD）技术是一种先进的薄膜制备技术，其特点在于能够在原子尺度上实现对薄膜成分厚度的精确控制。全网所有网赌网址大全原子层沉积课题组在王新炜特聘研究员的带领下，长期致力于ALD方法学方面的研究，开发新型材料的ALD工艺，如硫化钴（Nano Letters (2015) 15, 6689）、硫化镍（Chemistry of Materials (2016) 28, 1155）等等，为全网所有网赌网址大全在锂电池、有机光电等方面的研究提供重要的技术支持与储备。

       近日，为了解决有机电子器件电荷注入效率低的普遍性问题，该课题组针对有机材料的特殊性，开发了一种温和的低温ALD工艺，可以在接近室温（50摄氏度）实现氧化钒电荷注入薄膜层的ALD可控制备，从而在避免损伤有机材料的同时，显著降低金属与有机层间的接触电阻。

       该工作于近期发表在了《先进功能材料（Advanced Functional Materials）》上，并被选为当期的内封底文章。该论文的第一作者是全网所有网赌网址大全2014级硕士生高源鸿，通讯作者是王新炜特聘研究员，合作作者包括孟鸿教授等。

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Yuanhong Gao, Youdong Shao, Lijia Yan, Hao Li, Yantao Su, Hong Meng, Xinwei Wang*, “Efficient Charge Injection in Organic Field-Effect Transistors Enabled by Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Ultrathin VO_x Interlayer”, Advanced Functional Materials 26, 4456 (2016). DOI: 10.1002/adfm.201600482 (Inside Back Cover, DOI: 10.1002/adfm.201670160)